低溫等離子處理機的清洗原理

低溫等離子處理機的等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成，是物質的第四態。

通常情況下，人們普遍認為的物質有三態：固態、液態、氣態。區分這三種狀態是靠物質中所含能量的多少。氣態是物質的三個狀態中最高的能量狀態。

給氣態物質更多的能量，比如加熱，將會形成等離子體。當到達等離子狀態時，氣態分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結合，形成原來的氣體分子。

利用低溫等離子體處理技術在本世紀六十年代起就開始應用于化學合成、薄膜制備、表面處理和精細化工等領域，在大規模或超大規模集成電路工藝干法化、低溫化方面，在近年來也開發應用了等離子體聚合、等離子體蝕刻、等離子體灰化及等離子體陽極氧化等全干法工藝技術。等離子清洗技術也是工藝干法化的進步成果之一。

與濕法清洗不同，等離子清洗的機理是依靠處于“等離子態”的物質的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看，可能等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗。

目前就國內來說等離子清洗這一運用還是相當的普遍的了。特別是近幾年，隨著等離子電視，等離子切割機等等，這些高科技產品的不斷衍生，等離子這個高科技技術已經和我們的工業產品有著很密切的關系了。

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